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广州硅片研磨抛光机,1.采用间隔式自动喷液装置,可自由设定喷液间隔时间。2.系列研磨机工件加压采用气缸加4的方式,压力可调;抛光后工件表面光亮度高、无划伤、无料纹、无麻点、不塌边、平面度高等特点。抛光后工件表面粗糙度可达到Ra0.0002;平面度可控制在±0.002mm范围内。3.系列研磨机采用PLC程控系统,触摸屏操作面板,研磨盘转速与定时可直接在触摸屏上输入。1.本机主体采用一次成型工艺,合理的结构大大提升整机刚性度2.提供的传动系统,运行稳定,噪音小3.驱动电机采用变频控制,启动与仃止设有缓冲延时,运行过程中调速稳定冲击小,有效降低产品报废率。4.上磨盘自动找平,无需人为干预,有效解决错盘问题5上磨盘具备自锁功能安全性能进一步提高,提供快升快降缓升缓降功能6采用独特的设计,中心齿轮直径减小,加工面积增大,速比可调游轮可正反转,节省能耗的同时生产效率大大提高7太阳轮与内齿圈同步升降,满足取放工件及调整游轮啮合位置的要求8采用集用注润滑系统,对各相对运动面进行充分润滑9.本机提供PLC与继电器控制供用户选择
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